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塑胶真空电镀厂前处理不完全所造成的镀层缺陷有以下几点：

1：夹水线;气纹。塑胶电镀后的效果为：电镀后仍然清晰可见，因电镀本身镀层薄(2-30um)，韶关pvd电镀，单靠电镀覆盖难以做到。

2：批峰。电镀后的效果为：电镀后仍堆积电镀层，易造成刮手，影响装配。

3：胶屎。电镀后的效果为：塑胶电镀后仍覆盖不住，pvd电镀加工，影响外观。

4：冲花/胶泡。电镀后的效果为：电镀后起泡。

5：胶丝/塑胶屑。电镀后的效果为：电镀后成金属屑，影响装配，易损坏电镀槽溶液。

电镀设备真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，pvd电镀加工厂家，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以---膜层厚度的均匀性。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。薄膜厚度可由数百埃至数微米。



蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程，形成薄膜。



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