




3.半导体中一般金属导线材质为何?
答:鵭线(w)/铝线(al)/铜线(cu)
4.在pvd工艺中可以得到那几种金属膜?
答:铝(al),钛(ti),氮化钛(tin),钴( co).
一般wafer进入 pvd机台,必须镀上 钛/氮化钛/铝/钛/氮化钛.五层金属.
钴的功用为金属硅化物 (silicide).
5.钛(ti)的功用为何?
答:降低金属接触阻值

无论什么方法的离子电镀,金属表面处理价格,基板会利用负电压或高周波(绝缘体的情况下)偏压,从而使离子加速可有效地调节运动能量。另外,由于气氛处于活跃状态,金属表面处理,导入氧、氮等反应性气体就能镀出氧化物、氮化物、炭化物等的薄膜。一般,离子电镀膜的紧贴性---,高密度为特点。主要用于切削工具、金属模具、装饰品等的表面硬化膜或装饰膜,金属表面处理厂家,具代表性的为钛金属、铬金属的氮化膜、炭化膜、炭氮化膜等。

目前市场上,常见的ip离子镀膜工艺有:离子镀黄金(ipg),离子镀玫瑰金(iprg),金属表面处理哪里好,离子镀黑(ipblack),离子镀钢(ips)等。利用ip离子镀膜技术镀金,既节省了用金量,又提高了涂层的耐磨及耐蚀性能,从而---地提高了涂层的使用寿命。大量研究数据表明,厚度仅为传统水溶液镀金层(厚度为5微米)的1/50的ipg金涂层(厚度为0.1-0.2微米),其佩戴使用时间为传统水溶液镀金层的佩戴使用时间的3~4倍。

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