




pvd
1.target (靶材)是什幺?
答:在pvd中,靶材是用来提供镀膜(film)的金属材料.
2.pvd 制程原理为何?
答:在target与wafer间加之高电位差,此时制程气体ar在高位差下解离成ar+,又因ar+带正电被电场吸引而撞向target,使target产生金属晶粒因重力作用而掉落至wafer形成film.此种工艺是 pvd.
7.chamber待机一段时间后,卷发棒电镀,为何要做dummy(檔片)?
答:chamber待机一段时间后,chamber condition (真空,温度..)有些微变化.若不做dummy,前几片产品会受到影响.一般是由工艺---依照实际状态,制定待机时间规则,然后由制造部 operator 放入檔片到chamber 镀膜(其recipe 与产品的recipe相似).经由 dummy后,chamber condition 会恢复正常水准,可以安心生产.

电镀是指在含有预镀金属的盐溶液中,卷发棒电镀,以待镀基底金属为阴极,卷发棒电镀加工厂家,通过电解,使镀液中预镀金属的阳离子沉积在基底金属表面形成镀层,卷发棒电镀哪里有,使电镀件起到防腐、提高耐磨性、耐热性和增强美观的作用的一种表面处理方法。
电镀件的基本检验项目包括:膜厚、附着力、可焊性、外观、包装、盐雾试验等。真空电镀加工的做法是在电镀前先在材料上喷一层底漆。由于材料是塑料,在注射成型过程中会有气泡存在 机器气体,放置时会吸入空气中的水分。

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