盐田金属表面处理-金属表面处理报价-瑞泓科技(商家)

pvd 是物理气相淀积，指通过物理手段（电、磁、重力），金属表面处理公司，令气体中的特定成分淀积在晶圆表面，金属表面处理报价，形成薄膜。磁控溅射是pvd 的一种，盐田金属表面处理，属于比较老的薄膜生长技术之一，优点是成本较低，可以生长的薄膜种类多，缺点是薄膜一致性较差，台阶覆盖不好，强度较低。

cvd 是化学气相淀积，指令气体在晶圆表面发生化学反应，反应产物附着在晶圆表面形成薄膜。另外氧气（以及水蒸气）与晶圆本身反应生长氧化硅层一般单独分类为氧化，不属于cvd。优点是薄膜一致性好，缺点是受到反应气体种类---，不是所有的薄膜都能生长。

其他的薄膜生长工艺还有氧化、电镀、外延、键合等。各有各的适用范围。

随着技术的发展，pvd技术也不断推陈出新，出现了很多针对某几种用途的专门技术

溅射镀膜技术

溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。