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真空离子镀膜定义

在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。

离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起

真空离子镀膜是真空蒸发和真空溅射镀膜结合的一种镀膜技术。离子镀的过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，耳机配件真空电镀表面处理，在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物沉积在被镀基片表面的过程

现在因问题导致了很多产业工厂的关闭搬移，原本的水电镀就因的问题，导致给政策给关闭了，从而加进了真空镀膜的发展。

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，塑胶的金属感，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。