pvd镀膜的具体原理是什么？
答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，真空电镀价格，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。
pvd镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？
pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，揭阳真空电镀，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
不锈钢真空电镀的应该是每个电镀厂家所需要注重的，同时也是客户重点关注的，真空电镀加工，影响电镀层因素多而杂，下面简单介绍一下。
一、不锈钢真空电镀会产生一些腐蚀气体，原料中的酸碱物质较多，长时间在这种环境中工作会有不同程度的腐蚀，---的通风是对于电镀膜层加工和零件的保障，应保持空气流通，避免导致各类膜层问题。
真空电镀基本过程
1.从原料中发射粒子（经过蒸发、升华、溅射和分解等过程）；
2.粒子输运到基片（粒子之间发生碰撞，产生离化、复合、反应，能量的交换和运动方向的变化）；
3.粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜。
真空蒸发镀膜，真空的定义
泛指低于一个---压的气体状态。与普通---压状态相比，分子密度较为稀薄，从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。
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