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镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，手机配件ip电镀工厂，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15kw，镀膜时间1-300s，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层；

镀高折射率膜层，将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15kw，镀膜时间1-300s，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层，所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层，手机配件ip电镀厂家，此高低折射膜层的工艺气体为ar、n2、o2中的至少一种，手机配件ip电镀哪里好，其中ar气体流量为10-1000sccm，n2气体流量为10-1000sccm，o2气体流量为10-1000sccm；

真空蒸发镀膜的定义

真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。括热蒸发和eb蒸发（电子束蒸发）

真空蒸发镀膜主要过程

1.采用各种能源方式转成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子（原子、分子和原子团）

2.离开膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3.到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜

4.组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合

热蒸发原理及特点

热蒸发是在真空状况下，广州手机配件ip电镀，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。特点：装置便宜、操作简单广泛用于au、ag、cu、ni、in、cr等导体材料。

不过随着科技的进步，就在近10年，金属表面镀层处理有了飞跃的进步与发展，如常见于腕表上面的pvd或dlc表面镀层处理等。dlc一般被用在g级腕表之上。这些新技术虽然也号称是“电镀”的一种，但不仅是工法跟传统的电镀有着---的差别，在耐久度、颜色、光泽，乃至于表面硬度的增加都有着飞跃性的成长，也因此不只是品牌，一些制表品牌也大量的使用了这些新技术，来加强腕表的可看性与实用性。



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