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真空溅射镀膜

1、真空溅射镀膜的定义

给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。

2、磁控溅射镀膜的定义

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与ya原子发生碰撞，电离出大量的ya离子和电子，电子飞向基片，ya离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。

3、辉光放电的定义

辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。

真空电镀主要包含：真空蒸镀、磁控溅射镀和离子镀几类种类。他们全是选用在真空情况下，根据水蒸气蒸馏或磁控溅射等形式在塑料件表面堆积各种金属和非金属薄膜。

减反射涂层普遍用于拍摄和各种激光，而且是新建筑的大窗子所必须的。防反射涂层普遍用于数码相机和电视---机的画面。

真空电镀镀膜在电子设备中具有主要影响力。各种尺寸的承继电路。包含存储器、运算器、标示逻辑性元器件等，务必应用导电膜、绝缘层膜和防护膜。铬膜作为制造电路的掩膜。