




空电镀加工除油的工艺流程
真空电镀将室内空气抽走,达到一定的真空度后,真空电镀将室内的钨丝通电加热。当达到一定的温度后,真空电镀钨丝上所放置的金属丝气化,然后随着室内的工件的转动均匀的沉积在工件表面,手机配件ip电镀加工,真空电镀形成金属膜。一般常见的真空电镀用金属有铝、镍、铜等等。真空电镀但由于熔点,工艺控制等方面的原因,镀铝成为流行的做法。
真空电镀为了在五金系列产品的零部件的表面上得到附着---的表面处理后,真空电镀前的预处理必须要严格、认真地操作,以便达到预处理的标准。真空电镀中间除油,真空电镀这个工艺流程就是碱液脱脂可以用浸泡法或喷射清洗的方法来完成。
在真空电镀前的碱液除油脱脂中使用的工艺条件要根据镀件的材料及表面含油的情况而定,真空电镀等耐碱性材料的零件可使用强碱性清洗液,真空电镀除油温度也可以较高,以便提高除油的效率和速度,而对锌、铝、铜等材料的零件等不能使用强碱性溶液,温度也不能太高以免产生腐蚀,真空电镀在使用硬水配制的酸碱洗液时,应加入络合剂。一般的碱液除油后,真空电镀零部件的表面尚未达到表面处理要求的出货标准,真空电镀还必须进行电解脱脂处理工艺后才能达到出货要求或者进行下一个工序。

真空电镀加工的工艺流程
湿法工艺:1.化学浸镀、2.电镀、3.喷导电涂料
干法工艺:1.真空蒸镀、2.阴极溅镀、3.离子镀、4.烫金、5.熔融喷镀
真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,手机配件ip电镀报价,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。
常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法:
有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。

镀低折射率膜层,将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室,加热达到80-150℃的工艺温度,向腔室通入工艺气体,设置溅射功率1-15kw,镀膜时间1-300s,得到厚度为1-100nm的低折射率膜层,此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层;
镀高折射率膜层,将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室,石碣手机配件ip电镀,加热达到80-150℃的工艺温度,向腔室通入工艺气体,设置溅射功率1-15kw,镀膜时间1-300s,得到厚度为1-100nm的高折射率膜层,所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层,此高低折射膜层的工艺气体为ar、n2、o2中的至少一种,手机配件ip电镀加工厂,其中ar气体流量为10-1000sccm,n2气体流量为10-1000sccm,o2气体流量为10-1000sccm;

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