从所周知，水电镀行业的损耗率通常是5%-8%左右，因此在实际合作洽谈过程中，经常有客户拿水电镀的损耗率来与真空电镀工艺损耗率来对比，殊不知，水电镀和真空电镀虽然同属于表面电镀加工行业，但工艺却完全截然不同，水电镀加工是一种比较传统的表面电镀加工工艺，耳机配件真空电镀报价，其原理是通过化学液体的浸泡、以化学置换的方式达到在塑胶表面添加金属膜层增强外观件金属---的的目的，由于工艺原理所限，水电镀加工的产品在、颜色丰富度、---性、信号穿透率、光穿透率、局部蔽镀等方面有着天然的缺陷，很多要求较高的电子行业产品因上述原因而不得不更改设计方案放弃表面水电镀加工；真空电镀工艺随之应运而生，相比于水电镀的化学置换工艺，真空电镀采用纯物理的真空蒸发镀膜方式将金属材料在气态蒸发状态下均匀吸附到塑胶件的表面，并在冷却后形成完整的金属膜层，解决了上述水电镀加工的众多弊端，加上真空电镀加工工艺在rohs及环境友好等方面的表现，已经越来越被众多的设计研发人员采用，广泛的应用于各行各业需要用金属---提升产品---的外观件产品中。
真空法
这种方法是在高真空状态下令材料气化或离子化沉积于工件表面而形成镀层的过程。其主要方法是。
（一）物理气相沉积（pvd）
在真空条件下，将金属气化成原子或分子，或者使其离子化成离子，耳机配件真空电镀加工厂，直接沉积到工件表面，形成涂层的过程，称为物理气相沉积，其沉积粒子束来源于非化学因素，如蒸发镀溅射镀、离子镀等。
（二）离子注入
高电压下将不同离子注入工件表面令其表面改性的过程，称为离子注入，如注硼等。
（三）化学气相沉积（cvd）
低压（有时也在常压）下，气态物质在工件表面因化学反应而生成固态沉积层的过程，称为化学气相镀，如气相沉积氧化硅、氮化硅等。
pvd（技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为 pvd镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种 pvd 镀膜方式。
以不锈钢钛金举例，大致了解一下pvd技术。不锈钢工件清洗干净后进入真空罐，抽真空到10^-3pa这个级别，再通入氮气到0.1-1.0pa，耳机配件真空电镀厂家在哪，钛金属放电通过等离子化的氮气，沉积到（负偏压）的工件上。沉积物是金色的氮化钛（tin）。
这种装饰性镀膜，厚度一般都是低于1微米，东莞耳机配件真空电镀，别想着性能有多少好。当然了，如果有几个微米厚度，那硬度就ok了，可以胜任切削刀具的镀膜。
真空镀膜材料工艺流程
原料粉末——配料——混料——原料预处理——成型——预烧——真空烧结——分拣——真空包装
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