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真空蒸发镀膜的定义

真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。括热蒸发和eb蒸发（电子束蒸发）

真空蒸发镀膜主要过程

1.采用各种能源方式转成热能，加热膜材使之蒸发或升华，真空电镀价格，成为具有一定能量的气态粒子（原子、分子和原子团）

2.离开膜材表面，真空电镀哪里好，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3.到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜

4.组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合

热蒸发原理及特点

热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度，真空电镀厂家，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。特点：装置便宜、操作简单广泛用于au、ag、cu、ni、in、cr等导体材料。

pvd（技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为 pvd镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种 pvd 镀膜方式。

以不锈钢钛金举例，大致了解一下pvd技术。不锈钢工件清洗干净后进入真空罐，抽真空到10^-3pa这个级别，再通入氮气到0.1-1.0pa，钛金属放电通过等离子化的氮气，广东真空电镀，沉积到（负偏压）的工件上。沉积物是金色的氮化钛（tin）。

这种装饰性镀膜，厚度一般都是低于1微米，别想着性能有多少好。当然了，如果有几个微米厚度，那硬度就ok了，可以胜任切削刀具的镀膜。

真空镀膜材料工艺流程

原料粉末——配料——混料——原料预处理——成型——预烧——真空烧结——分拣——真空包装