电镀技术pvd真空离子镀详解
该技术原理如下：在真空室内采用真空弧光放电技术，在阴极材料表面产生弧光，使阴极材料蒸发，形成原子和离子。在电场作用下，原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体，即可在工件表面形成具有优良性能的镀层。阴极材料（也称靶材）一般采用钛、铬、锆等金属，卷发棒电镀表面处理，常用反应气体为氮气和碳氢化合物气体。获得的镀层有tin、crn、tic、zrn等。
pvd制程中，镀膜之前为何需要预先去除原始氧化层?
答：预先去除原始氧化层，让金属层之间电阻不会过大以及增加膜与衬底的结合力.
pvd制程中，为何使用dc power ?
答：使用dc power，再加上通一定的ya气 （ar gas），在真空室就会形成等离子体（电浆）。离子体中的离子撞击target，卷发棒电镀加工厂家，将target的原子打下落在wafer上而形成金属film。
为何机台必须使用冷却水?
答：控制温度，以防温度太高，造成机台破坏
pvd镀膜能够镀出的膜层种类，pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)，氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn)，卷发棒电镀公司，以及氧化物膜(如tio等)。pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级，东莞卷发棒电镀，厚度较薄，一般0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
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