




真空镀膜和光学镀膜的概念和区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

镀完彩色pvd膜的不锈钢制品应注意以下事项:
1.真空镀pvd膜固然具有必然的耐侵蚀性,然而面临酸碱等强侵蚀性物质的接触,照样难以抵御。因而,平常保护维护时,尽量不选用含强酸强碱或去污很强的清洗剂,如洁厕精,手机配件ip电镀公司,脱漆剂,金属清洗剂等,可以选用工业酒精用软棉布轻柔擦拭。假如外表有污垢,手机配件ip电镀加工,也要选用弱酸弱碱溶剂来处置。此外,手机配件ip电镀,假如长时间表露在---情况中,或与侵蚀性液体长时间接触,pvd膜层也轻易呈现零落等问题,如游水池(含氟),海水(含盐分多),高温高湿(蒸汽)等情况中。
2.防指纹光油的运用。越来越多的客户选择在镀好pvd膜层的不锈钢产物上,再喷上一层透明防指纹油,结果很明显,手摸上去没有指纹印,易于清洗,还可以添加耐磨和耐侵蚀的功用,一举多得。然则,手机配件ip电镀哪里好,缺陷是加工要求高,费用也不低,影响产物的金属---,还有老化等问题;所以,运用前必然要稳重思索。
3.后续加工问题。pvd膜层因为与基材有着十分好的连系力,不轻易脱落,产品可进行后续简略的机械加工,如剪,折,弯,切。然则,焊接对pvd膜层影响十分大,霎时的高温会招致膜层零落和变色,因而,需求焊接的不锈钢产物要镀色,先做好产品后再镀色。
真空蒸镀又称热蒸发蒸镀法
工艺关键词:高温溶解蒸发、沉积后覆膜
依薄膜材料之加热方式之不同,真空蒸镀又可分为间接加热型与直接加热型。
1. 间接加热型:只针对蒸发源加热,间接使其上之薄膜材料因热而蒸发;
2. 直接加热型:利用高能粒子(电子束,电浆或镭射)或高频,直接使置于蒸发源上之薄膜材料升温而蒸发;
为避免蒸发源(容器)随着薄膜材料一同被蒸发,蒸发源材质的熔点一定要高于薄膜材料的沸点。
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