是iphone的生产基地,pvd电镀加工厂家,也是手机壳的制造国,而生产手机的企业则是忙得不亦乐乎了,成批量的手机壳、手机配件需要镀膜装饰,江苏pvd电镀,利用传统的水镀、电镀膜的方法,无疑还是有很多弊端,如:问题、效率问题、外观的问题,虽然有些可以解决,但是还是有很多值得---的地方。面对日益---的环境问题,就迫使诸多企业面临技术上的改革---。因此在镀膜工艺技术上进行了更新,采用真空电镀的镀膜方式。真空电镀是一种物理沉积现象。
真空电镀--磁控溅射镀膜技术
一、磁控溅射镀膜-溅射原理:
1.使chamber达到真空条件,一般控制在(2~5)e-5torr
2.chamber内通入ar,并启动dc power
3.ar发生电离:ar ? ar+ + e-
4.在电场作用下,电子会加速飞向阳极
5.在电场作用下,ar+会加速飞向阴极的target(靶材),target粒子及二次电子被击出,前者到达substrate(基片)表面进行薄膜成长,后者被加速至阴极途中促成更多的电离。
6.垂直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近,延长其在等离子体中的运动轨迹,pvd电镀厂家,提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率的作用。
真空离子镀技术具有下列优点:
1.可获得高硬度的镀层,镀层摩擦系数小,耐磨性高。
2.镀层化学稳定性好,抗高温氧化,pvd电镀报价,耐蚀性好。
3.镀层美观。可获得如18k金的金黄---泽及其它彩色膜。
4.镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层,镀层不易剥落。
5.生产过程对环境无污染。镀层形成速度快,节电、节水。
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