蒸镀原理
电阻加热蒸镀法
主要利用电流通过电阻时会产生热能来对薄膜材料间接加热。装置如下
电阻加热蒸镀法
电阻加热法的缺点:
1. 需先加热蒸发源再传热给薄膜材料，蒸发源易与材料起作用或引升杂质;
2. 蒸发源加热温度有限，对高熔点之氧化物大多无法熔融蒸镀;
3. 蒸镀速度有限;
4. 如镀膜材料为化合物，则有分解之可能;
5. 膜质不硬，密度不高，附着性较差。
真空pvd镀膜产品有一定的耐腐蚀性，金属材料在接触酸碱等强腐蚀性物质时，发生化学反应这个是由材料本身特性决定的。因此，平时使用或者保养维护时，pvd电镀，尽量不选用含强酸强碱或去污能力强的清洗剂，金属清洗剂等直接擦洗表面。此外，如果长时间暴露在---环境中，pvd电镀哪里好，或与腐蚀性液体长时间接触，pvd膜层也容易出现脱落等问题。
真空镀膜运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶材(target)外表， 靶材的原子被弹出而堆积在基板外表构成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，可是镀膜速度却比蒸镀慢许多。新式的溅镀设备---都运用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加快靶材周围的ya气离子化，pvd电镀厂家在哪， 造成靶与ya气离子间的碰击机率添加， 进步溅镀速率。
通常金属镀膜大都选用直流溅镀，而不导电的陶磁资料则运用rf沟通溅镀，pvd电镀厂家，---的原理是在真空中运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶(target)外表，电浆中的阳离子会加快冲向作为被溅镀材的负电极外表，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上构成薄膜。
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