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真空电镀反应溅射：

1.在溅射镀膜时，有意识地将某种反应性气体如氮气，氧气等引入溅射室并达到一定分压，即可以改变或者控制沉积特性，从而获得不同于靶材的新物质薄膜，2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。

3.直流反应溅射存在靶z毒，阳极消失问题，上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射，使反应溅射可以---的工业应用。

4.反应磁控溅射所用的靶材料（单位素靶或多元素靶）和反应气体（氧、氮、碳氢化合物等）通常很容易获得---的纯度，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。

5.反应磁控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。

6.反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高，而且成膜过程通常也并不要求对基板进行---温度的加热，因而对基板材料的---较少。

7.反应磁控溅射适合于制备大面积均匀薄膜，并能实现对镀膜的---工业化生产。

理论上所有pvd真空镀膜加工都可以添加运用添加剂，下面咱们来看看电镀中运用添加剂的效果：

       1.整平效果

能是基体微粗糙表面变得平坦，下降粗糙度。

       2.润湿效果

可下降金属与溶液的界面张力，使镀层与基体能---附着，使阴极---出的氢气泡容易脱离，防止生孔。

       3.细化晶粒

能改动镀层的结晶状况，细化晶粒使镀层细密，在锌酸盐镀锌液中假如不加添加剂，得到的是海绵状沉积物，手机配件ip电镀加工，参加添加剂以后，镀层细密、详尽而亮光。

       4.亮光效果

参加亮光剂并与其他添加剂合作运用，手机配件ip电镀工厂，进一步进步镀层亮光度，是装饰性电镀不可或缺的成分。

       pvd真空镀膜加工所用到的添加剂还有许多其他效果，如进步镀层硬度、下降镀层应力等。添加剂应选择运用，有的添加剂兼有几种效果，在镀液中一般含有（1——2）种添加剂。目前运用的添加剂首要是有机化合物或合成物，无机化合物也合作运用。