




离子镀
工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材
主要原理是利用气体放电现象,将薄膜材料解离成离子状态,而后沉积于基板上。
离子镀的基本镀膜系统为pvd系统,只是多加入反应性气体,使其与蒸发后的薄膜材料反应,而后沉积在基板上形成化合物,所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同,是基材靶材的化合物。
离子镀基本上包括三个步骤 :
1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;
2. 将气态原子变成离子态,以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子,以达到始之离子化的程度;
3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压,以达到加速离子的能力。
离子镀原理
离子镀的特点如下:
1. 离子镀可在较低温度600度下进行;
2. 附着性---;
3. 绕射性----带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;
4. 沉积速度快,pvd电镀哪里近,可达1~5um,pvd电镀厂,而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;
5. 加工性及薄膜材料的选择性广,可加工除金属外,pvd电镀工厂,陶瓷,玻璃 ,塑胶均可,而薄膜材料的选择也很广泛,金属,合金,化合物皆可。

再到后来更多的是直接高光注射出来,到现在的新能源汽车,格栅饰件基本上消失;内外饰金属化塑料表面,传统电镀目前流行的一个趋势是真空镀膜技术,具有以下优势:
在金属化塑料表面,真空镀具备透光性,传统电镀没有。在背面光源关闭时呈现金属---,光源打开时呈现出发光效果;
真空镀工艺在---金属---的同时,具有---的透波性能;
基材的多样化,如透明pc、abs+pc、透明pmma等可以---的与真空镀膜技术进行表面处理的技术结合。
膜层是纳米级膜厚,具备---的激光的剪裁性能,可以实现图案制造的柔性化生产
镀层对人无生物伤害的物理伤害
在制造过程中无污染

真空镀膜和光学镀膜的原理和区别
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。
2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,道滘pvd电镀,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。
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