pvd电镀哪里有-pvd电镀-瑞泓科技有限公司

除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（abs料、abs+pc料、pc料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，pvd电镀，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3d工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）

真空电镀--磁控溅射镀膜技术

一、磁控溅射镀膜－溅射原理：

1.使chamber达到真空条件，pvd电镀哪里有，一般控制在(2~5)e-5torr

2.chamber内通入ar，并启动dc power

3.ar发生电离：ar ? ar+ ＋ e-

4.在电场作用下，电子会加速飞向阳极

5.在电场作用下，ar+会加速飞向阴极的target（靶材），target粒子及二次电子被击出，前者到达substrate（基片）表面进行薄膜成长，后者被加速至阴极途中促成更多的电离。

6.垂直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨迹，提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率的作用。