pvd电镀-深圳市瑞泓科技-pvd电镀报价

不锈钢真空电镀需要挂在设定好的挂具上入炉电镀。有些没有挂点的加工件容易出现挂具影子现象。所以就要在加工时用导电的铜线缠绕在产品的一端，使其固定产品挂在挂具上。铜线的粗细和铜线缠绕的方法都很重要，稍有不当就会造成产品真空电镀时出现挂具影子现象。

影响不锈钢真空电镀膜层产生挂具影子的主要原因：挂具的设计和挂具的导电性---。

1. 挂具设计不合理，电力线分布不均匀

2. 挂具上的挂钩脚子松落，导电性差

3. 挂具挂钩有绝缘层，未剥离干净

4. 挂具闲置时间长，挂具导电的接触面有杂质，pvd电镀报价，未除尽

5. 挂具各接触点的接触电阻大，使产品表面上的真实电流密度太小，而使低电流密度区镀层不亮

6. 挂具挂钩上的镀层很厚，pvd电镀，没有及时维护，导电性差

7. 工人在操作过程中对产品上挂方法操作不当

8. 不锈钢真空电镀膜层结合力不好

工艺关键词:电离惰性气体轰击靶材、靶材脱落沉积冷却成膜

溅镀的原理，是镀膜机腔体抽真空，直接以薄膜材料(靶材)当做电极，利用电极间见通电5kv~15kv产生的电浆轰击靶材，同时通入气体，气体发生离子化，粒子在电浆内移动，离子撞击靶材并使靶材表面原子脱离进而沉积在基板上，pvd电镀哪里近，冷却浓缩成薄膜。

磁控溅镀

在直流溅镀或射频溅镀的基础上改进电极结构，亦即再把阴极内侧装置一磁铁，并使磁场方向垂直于极暗区电场方向，以便用磁场约束带电粒子的运转，pvd电镀，这种溅射法称为磁控溅射。

由于磁场的作用力与电子的运转方向垂直，将形成电子回旋运动的向心力，此时中性物种间的撞击机率提高，始之在较低的压力下即能制作薄膜。

除了低压外，磁控溅射的另两项有优点就是高速，低温，因此也称之为高速低温溅镀法。

但是磁控溅镀也存在一些问题，如就平板磁控电极磁控电极而言，靶材中央及周边不为垂直于电厂的磁场分量越来越小，亦即与靶材表面平行的磁场分量小，使得在靶材表面的一个环形区域被溅射的异常快，而中央和边缘处溅射的少，如此下去便会出现w形侵蚀谷，使的靶材利用率降低，并且可能对薄膜的均匀性产生影响。