




真空电镀:vacuum metalizing,即是物理气相沉积(pvd),pvd电镀报价,即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,pvd电镀,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
真空镀膜的方法材料:
(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3pa,然后将阴极接上2000v的直流电源,pvd电镀加工,便激发辉光放电,带正电的ya离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,石碣pvd电镀,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
光学镀膜方法材料
(1)---镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高氧化锆镀膜,不出崩点。

真空pvd镀膜产品有一定的耐腐蚀性,金属材料在接触酸碱等强腐蚀性物质时,发生化学反应这个是由材料本身特性决定的。因此,平时使用或者保养维护时,尽量不选用含强酸强碱或去污能力强的清洗剂,金属清洗剂等直接擦洗表面。此外,如果长时间暴露在---环境中,或与腐蚀性液体长时间接触,pvd膜层也容易出现脱落等问题。

真空电镀技术指标
镀层厚度:3~5μm。
镀层硬度:1300~1800hv
真空电镀应用说明
1.刃具、模具等工具的表面强化。在高速钢、硬质合金制造的刃具(如钻头、铣刀、车刀)及模具表面获得硬度的tin、tic、zrn等镀层,提高刃具、模具的耐磨性和外观。
2.机械零件的表面强化。如凸轮、叶片、气门、轧辊表面获得耐磨镀层,延长零件使用寿命。
3.彩色膜钢板生产应用。可在尺寸为1m×2m、厚度为0.2mm~0.6mm的不锈钢板和低碳钢板上获得金黄色tin或其它彩色膜, 耐磨耐蚀性好,彩色膜钢板用于饭店、宾馆、办公大楼等装饰用。
4.日用品的装饰镀。如手表壳、表带、眼镜架、餐具、卫生洁具、吊灯、门把等的装饰。
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