pvd电镀公司-瑞泓科技-湘西pvd电镀

真空电镀反应溅射：

1.在溅射镀膜时，有意识地将某种反应性气体如氮气，氧气等引入溅射室并达到一定分压，pvd电镀加工，即可以改变或者控制沉积特性，从而获得不同于靶材的新物质薄膜，2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。

3.直流反应溅射存在靶z毒，阳极消失问题，上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射，pvd电镀公司，使反应溅射可以---的工业应用。

4.反应磁控溅射所用的靶材料（单位素靶或多元素靶）和反应气体（氧、氮、碳氢化合物等）通常很容易获得---的纯度，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。

5.反应磁控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。

6.反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高，而且成膜过程通常也并不要求对基板进行---温度的加热，因而对基板材料的---较少。

7.反应磁控溅射适合于制备大面积均匀薄膜，并能实现对镀膜的---工业化生产。

真空离子镀技术具有下列优点：

1.可获得高硬度的镀层，镀层摩擦系数小，湘西pvd电镀，耐磨性高。

2.镀层化学稳定性好，抗高温氧化，耐蚀性好。

3.镀层美观。可获得如18k金的金黄---泽及其它彩色膜。

4.镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层，镀层不易剥落。

5.生产过程对环境无污染。镀层形成速度快，节电、节水。