ｐｖｄ镀膜技术的特点：
1 ．膜层与物件表面的结合力强，保色---，真空电镀哪里好，耐磨性强
2 ．离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的物件
3 ．膜层沉积速率快，生产效率g
４.可镀膜层颜色种类广泛
５.稳定性高、
ｐｖｄ镀膜的整个工艺流程：ｑａ品检—上挂—清洗—烘烤—电镀—出炉—下架—全检
我司真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，就会清洁工作室一次，需用用酒精或（naoh）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，目的是使镀上去的膜料铝（al）与naoh发生反应，再用清水清洗真空室和用布沾q油清洗精抽阀内的污垢。当粗抽泵连续工作一个月，需更换新油。
方法是：拧开放油螺栓，放掉旧油，真空电镀哪里近，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量，连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，厚街真空电镀，用布擦干净箱内污垢。
真空电镀可以在低成本的前提下，可以将廉价材料（如abs）的表面处理成金属表面的效果
真空电镀的工件表面保持干燥光滑，否则将---的影响表面效果
真空电镀的尺寸不仅受真空腔室体积的影响，还取决于工件本身的尺寸，例如板材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3d工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
真空电镀非常依赖人工操作，真空电镀过程中，工件需要喷涂，装载，卸载和再喷涂，所以人力成本相当高，但是也取决于工件的复杂度和数量。真空电镀对环境污染很小，类似于喷涂对环境的影响
真空电镀是在真空条件下用蒸发器加热待蒸发物质，使其气化并向基板运输在基板上冷凝形成固态薄膜的过程。
真空电镀与其他气相沉积技术相比有许多优点：设备比较简单、容易操作；制备的薄膜纯度高、成膜速度快；薄膜生长机理简单，易控制和模拟。
真空电镀技术的不足：不易获得结晶结构的薄膜；沉积的薄膜与基板的附着性较差；工艺重复性不够好。
真空蒸发镀膜原理
（1、基片加热电源；2、真空室；3、基片架；4、基片；5、膜材；6、蒸发盘；7、加热电源；8、排气口；9、真空密封；10、挡板；11、蒸汽流）
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