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真空镀膜和光学镀膜的原理和区别

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，真空电镀厂家，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。

2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，真空电镀哪里有，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。

镀分为化学镀和电镀，在镀膜过程中，化学镀不需要通电，电镀是需要通电。比如：电镀、真空电镀、真空镀、水电镀、真空离子镀、pvd、蒸镀、溅镀、ncvm、vm、水镀等

那么什么是化学镀，大岭山真空电镀，什么又是电镀？

化学镀是一种不需要通电，依据氧化还原反应原理，利用强还原剂在含有金属离子的溶液中，真空电镀厂家在哪，将金属离子还原成金属而沉积在各种材料表面形成致密镀层的方法

电镀就是是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺...

电镀分两部分：

一部分是水镀，这是化学层面的电镀

一部分是pvd， 这是物理层面的电镀