长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、---真空、保真空:
1.蒸发室有很多粉尘(应清冼)
2.扩散泵很久未换油(应清冼换油)
3、前级泵反压强太大机械泵真空度太低(应清冼换油)
4、各动密封胶圈损坏(更换胶园)
5.由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶园老化(更换胶因)
6、蒸发室各引入水路密封处是否有胶罔损坏(更换胶圈)
7.各引入座螺钉螺母有无松动现象(重新压紧)
8、高低预阀是否密封---(注油)。
将活性气体引入到真空镀膜室通过活性气体的原子（分子）与蒸发源中蒸发出来的原子发生化学反应，生成化合物涂层的方法，称为反应蒸镀法。反应即可在气态空间中，pvd电镀，也可在基片表面上进行，也可以两者兼有。其中以在基片上进行反应为主。反应的进行通常与反应气体的分压、蒸发温度、蒸发速度以及基片温度等因素有关，所获得的涂层可以是金属合金，泰州pvd电镀，也可以是化合物。目前，这种方法已经广泛应用于制备绝缘化合物膜层上。
真空镀膜运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶材(target)外表， 靶材的原子被弹出而堆积在基板外表构成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，可是镀膜速度却比蒸镀慢许多。新式的溅镀设备---都运用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加快靶材周围的ya气离子化， 造成靶与ya气离子间的碰击机率添加，pvd电镀厂家， 进步溅镀速率。
通常金属镀膜大都选用直流溅镀，而不导电的陶磁资料则运用rf沟通溅镀，---的原理是在真空中运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶(target)外表，电浆中的阳离子会加快冲向作为被溅镀材的负电极外表，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上构成薄膜。
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