




pvd是:中文意思是:物理气相沉积。主要意思是指在真空条件下,真空电镀公司,在真空状态注入y气,y气桩基靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
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蒸镀原理
电阻加热蒸镀法
主要利用电流通过电阻时会产生热能来对薄膜材料间接加热。装置如下
电阻加热蒸镀法
电阻加热法的缺点:
1. 需先加热蒸发源再传热给薄膜材料,蒸发源易与材料起作用或引升杂质;
2. 蒸发源加热温度有限,真空电镀价格,对高熔点之氧化物大多无法熔融蒸镀;
3. 蒸镀速度有限;
4. 如镀膜材料为化合物,则有分解之可能;
5. 膜质不硬,密度不高,附着性较差。

真空蒸发镀膜中采用的被镀材料称为薄膜材料,简称膜材或镀材。在溅射镀膜中称为靶材如果从所用薄膜材料的种类来看,主要分为以下几种薄膜材料。
(1)纯金属材料
对于纯金属材料,由于它的蒸发(升华)是单一的,因此,淀积到基体上的薄膜材料与从蒸发源上发出来的膜材完全相同。只要避免它在加热蒸发过程中杂志的混入,就可以得到组分单一的纯金属膜层。
(2)金属合金
蒸发合金时会出现分馏(成分的部分分离)。因为不同金属的蒸发速率的差异。
(3)绝缘体和介质
大多数绝缘体和介质蒸发时会发生分解,或与加热器材料发生化学变化。由于两者都和蒸发源温度有关。因此淀积膜的成分随蒸发源温度而变化。

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