真空电镀特点
镀层附着性号，膜层不易脱落
绕镀性好，---了表面的覆盖度
镀层---
沉积速率高，成膜速度快
镀膜所适用的基体材料与膜材范围广
什么是pvd镀膜技术：pvd中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
真空镀膜行业中，凤岗耳机配件真空电镀，ya气的流量大小具体如何控制?
如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：ya气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个---压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么ya气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。
任何固体材料在---环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。
真空离子镀膜定义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，耳机配件真空电镀工厂，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。
离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起
真空离子镀膜是真空蒸发和真空溅射镀膜结合的一种镀膜技术。离子镀的过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物沉积在被镀基片表面的过程
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