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真空溅射镀膜

1、真空溅射镀膜的定义

给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。

2、磁控溅射镀膜的定义

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与ya原子发生碰撞，电离出大量的ya离子和电子，电子飞向基片，pvd电镀哪里好，ya离子在电场的作用下加速轰击靶材，pvd电镀哪里近，溅射出大量的靶材原子，pvd电镀公司，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。

3、辉光放电的定义

辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。

pvd技术是制备薄膜材料的主要技术之一，膜层赋予产品表面金属---和丰富的颜色，并---耐磨、耐腐蚀性，---。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种 pvd 镀膜方式。

真空电镀定义

物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固体物质涂层。