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真空蒸发镀膜的定义

真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。括热蒸发和eb蒸发（电子束蒸发）

真空蒸发镀膜主要过程

1.采用各种能源方式转成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子（原子、分子和原子团）

2.离开膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3.到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜

4.组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合

热蒸发原理及特点

热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。特点：装置便宜、操作简单广泛用于au、ag、cu、ni、in、cr等导体材料。

电流密度的凹凸也会影响不锈钢真空电镀的作用，当电流密度过低时，阴极极化作用较小，pvd电镀厂家在哪，镀层结晶粗大，乃至没有镀层。镀液温度的升高能加速分散，降低浓差极化，此外，宁波pvd电镀，升温还能使离子的脱水过程加速。跟着电流密度的增加，pvd电镀哪里好，阴极极化作用跟着增加，镀层晶粒越来越细。

为了保障不锈钢真空电镀的，我们在------的电镀环境同时，也需要有一个能产生正常镀层的电流密度范围。可以合理运用镀液中的光亮剂、整平剂、润湿剂等添加剂来---镀层的品质。