佛山耳机配件真空电镀-瑞泓科技(商家)

真空镀膜运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶材(target)外表， 靶材的原子被弹出而堆积在基板外表构成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，可是镀膜速度却比蒸镀慢许多。新式的溅镀设备---都运用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加快靶材周围的ya气离子化，耳机配件真空电镀公司， 造成靶与ya气离子间的碰击机率添加， 进步溅镀速率。

通常金属镀膜大都选用直流溅镀，而不导电的陶磁资料则运用rf沟通溅镀，---的原理是在真空中运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶(target)外表，电浆中的阳离子会加快冲向作为被溅镀材的负电极外表，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上构成薄膜。

真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

3.真空室内残余气体压力对膜层的影响

真空室内残余气体的压力对膜性能的影响较大。压力过高残余气体分子不但已与蒸发粒子碰撞使其入射到基片上的动能减小影响膜的附着力。而且，过高的残余气体压力还会---影响膜的纯度，使涂层的性能降低。

4.蒸发温度对蒸发涂层的影响

蒸发温度对膜性能的影响是通过蒸发速率随温度变化而表现出来。当蒸发温度高时，汽化热将减小。如果膜材在蒸发温度以上进行蒸发时，即使是温度稍有微小的变化，耳机配件真空电镀加工厂，也可以引发膜材蒸发速率的急剧变化。因此，在薄膜的沉积过程中采取准确的控制蒸发温度，避免在蒸发源加热时产生大的温度梯度，对于易于升华的膜材选用膜材本身为加热器，进行蒸镀等措施也是非常重要的。

5.基体与镀膜室的清洁状态对涂层性能的影响

基体与镀膜室的清洁程度对涂层的性能影响是不可忽略的。它不仅会---影响沉积膜的纯度，而且也会减小膜的附着力。因此对基体的净化对真空镀膜室及室内的有关构件（如基片架）进行清洁处理和表面去气均是真空镀膜工艺过程中不可缺少的过程。