真空电镀工厂-瑞泓科技-张家界真空电镀

真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响

蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积，为---涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时，则轰击基片的轰击速率即为定值。因此，选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小，从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故，沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是，沉积速率如果过大可能增加膜的内应力，致使膜层内缺陷增大，---时可导致膜层破。---是，在反应蒸镀过程中，为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应，可选择较低的沉积速率。当然，对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子，是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm，真空电镀厂，蒸镀时间为3s时，张家界真空电镀，其反射率为93%。但是，如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢，采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是，反射率已下降到68%。

2.基片温度对蒸发涂层的影响

基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。---是水蒸气分子的排除更为重要。而且，在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变，从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异，从而减少或消除膜基界面的内应力。此外，由于基片温度与膜的结晶状态有关，在基片温度低或不加热的条件下，往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时，则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然，基片温度也不能过高，以防止蒸发涂层的再蒸发。

真空电镀工艺的整个工艺过程都是在高真空状态下在设备腔体内完成，所以通常只要设备设定参数与工艺要求相吻合时通常良品率会---，但偶有操作不当也会产生，下面介绍几种现场品控的方法以供参考。

（1）目视法

目视法主要是通过观察电镀成品与样件膜层外观来品控产品的方法，虽然简单却又是不可或缺的，不同的膜材在经过真空电镀后会表现出不同的颜色，不同的---，真空电镀工厂，如铝的亮白、锡的黑灰、铬的q黑、在工艺完成后都会呈现在基材表面。所以当出现电镀成品的膜层外观与样件膜层外观不符时，首先要确定的是膜材是否置放正确，其次是确定工艺参数是否与该工艺相吻合，真空电镀价格，确定是否有操作不当。

（2）百格法

百格法即用百格刀或美工刀在膜层表面划出大约100个1mm见方的小格然后用胶带粘定后测试膜层与基体附着成度的方法。测定法方如下：

a) 首先在膜层表面用百格刀划出10*10个1mm见方的的网格，网格要穿透膜层。

b) 用相应胶带轻轻附在百格表面，并用手指覆压赶出二者之间气泡，然后静置1分钟，左手握住测试样品，右手食指和拇指捏住胶带一端，以与基材表面90度角的力迅速拉起胶带，反复三次以没有膜层脱落为合格。

（3）电流测定法

电流测定法主要针对于不导电金属和合金膜的测定，通过测定膜层表面电流来检测镀膜产品是否合格。

测定方法是：在膜层表---距1cm的距离分别放置电流表的两个探头，打开电流表，观察电流表指针的情况。然后根据工艺要求来确定膜层是否合格。此种方法不仅可以检测所镀膜层是否是所需膜层，还可以根据电流情况来判断膜层厚度是否满足工艺要求。