河源pvd电镀-深圳市瑞泓科技-pvd电镀加工厂

真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

3.真空室内残余气体压力对膜层的影响

真空室内残余气体的压力对膜性能的影响较大。压力过高残余气体分子不但已与蒸发粒子碰撞使其入射到基片上的动能减小影响膜的附着力。而且，过高的残余气体压力还会---影响膜的纯度，使涂层的性能降低。

4.蒸发温度对蒸发涂层的影响

蒸发温度对膜性能的影响是通过蒸发速率随温度变化而表现出来。当蒸发温度高时，汽化热将减小。如果膜材在蒸发温度以上进行蒸发时，即使是温度稍有微小的变化，也可以引发膜材蒸发速率的急剧变化。因此，pvd电镀哪里有，在薄膜的沉积过程中采取准确的控制蒸发温度，避免在蒸发源加热时产生大的温度梯度，河源pvd电镀，对于易于升华的膜材选用膜材本身为加热器，pvd电镀工厂，进行蒸镀等措施也是非常重要的。

5.基体与镀膜室的清洁状态对涂层性能的影响

基体与镀膜室的清洁程度对涂层的性能影响是不可忽略的。它不仅会---影响沉积膜的纯度，pvd电镀加工厂，而且也会减小膜的附着力。因此对基体的净化对真空镀膜室及室内的有关构件（如基片架）进行清洁处理和表面去气均是真空镀膜工艺过程中不可缺少的过程。

除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（abs料、abs+pc料、pc料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3d工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）