




真空电镀:vacuum metalizing,即是物理气相沉积(pvd),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。除了自然材料以外,适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料(abs料、abs+pc料、pc料等等)、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂,加上工艺流程复杂,对环境要求高;为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响,因此对靶材尺寸有一定的要求,不适合大靶材,常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3d工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)
真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑,否则会影响处理效果。真空电镀可镀色彩丰富,可以镀7色,比水电镀的颜色要丰富,可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜(一种铜锡合金)等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜(红色),镀镍(偏黄的银色),镀金,镀银,镀铬(银白色)等单调色彩。真空电镀是常见的金属表面处理技术。

真空电镀前处理一般为化学清洗,耳机配件真空电镀,根据油脂的种类和性质,除油剂包含两种主体成分,碱类助洗剂和表面活性剂。
1、碱类物质。碱类助洗剂常用的为q氧化钠、纯碱、硅酸钠和三聚磷酸钠。q氧化钠和纯碱作为碱剂,价格为便宜,废水较难处理,有时因为碱性偏强导致清洗物体受到损伤,另一方面q氧化钠和纯碱没有乳化作用对于矿物油清洗没有任何效果;
硅酸钠与三聚磷酸钠既能提供碱性,又能提供一定的乳化力,广泛的用于各种除油清洗剂中---是对碱敏感的除油工艺。使用硅酸钠大的缺陷是除油后若不用热水先洗一道,直接冷水洗很难将残留的硅酸钠完全洗净,残留的硅酸钠会与下一道工序的酸反应生成附着牢固的硅胶,从而影响镀层的结合力;三聚磷酸钠则主要存在磷污染破坏环境的担忧。
2、表面活性剂。表面活性剂是除油剂的核x成分,耳机配件真空电镀报价,早期的除油剂是以乳化剂的乳化作用为主,耳机配件真空电镀,如脂肪醇聚氧乙烯醚(aeo)系列、烷j酚聚氧乙烯醚(tx、np)系列等。过多的使用乳化剂会将脱落的油脂乳化增溶于工作液中,导致工作液除油能力逐渐下降,需要频繁更换工作液。
但是随着表面活性剂价格的上升,越来越要求降低表面活性剂的使用量,提高除油的速率,这就要求除油剂具有---的分散和抗二次沉积性能,将脱落的油脂从金属表面剥离,在溶液中不乳化、不皂化,只是漂浮在溶液表面,保持槽液的清澈与持续的除油能力。
另一方面,适合除油的表面活性剂一般为非离子类型的产品,非离子产品普遍价位较高,为了降低除油剂成本,阴离子的产品也会出现有的除油剂的配方中,---是同时具有非离子性质的阴离子型表面活性剂脂肪酸---乙---化物磺酸盐(fmes),具有优异的“分散卷离”特点,有助于油脂的非乳化式剥离去除。

真空电镀工艺的流程
1.加热蒸发过程
包括固相或液相转变为气相的过程,每种物质在不同的温度下有不同的饱和蒸气压。
2.气化原子或分子在蒸发源与基片之间的运输过程
此过程中气化原子或分子与残余气体分子发生碰撞,其碰撞与蒸发原子或分子的平均自由程以及蒸发源到基板距离有关。
3. 蒸发原子或分子在基片表面的沉积过程
即蒸汽的凝聚成核,核生长形成连续膜,为气相转变为固相的过程。
上述过程必须在空气稀薄的真空环境中(10-2~1pa)进行,否则蒸发粒子将于空气分子碰撞,使膜污染甚至形成氧化物,或者蒸发源氧化烧毁等。

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