




对经过清洗处理的清洁表面,不能在---环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。用刚 氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至z小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。真空镀膜加工对于 高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。
真空镀膜加工清除镀膜室内的灰尘,设置清洁度高的工 作间,耳机配件真空电镀厂,保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度大的地区,除镀前要对基片、真空室内各部 件认真清洗外,还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须 采取挡油措施。
一、当正在镀膜时真空度突然下降
1.蒸发源水路胶罔损环(更换胶罔)
2.坩埚被打穿(更换坩埚)
3、高压电极密封处被击穿(更换胶圈)
4.工转动密封处胶圈损坏(更换胶圈)
5、预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)
6、高阀突然关闭可能是=位五通阀损坏(更换二位五通阀)
7.机械泵停机可能是继电器断开(检查继电器是否工作正常)
8、烘烤引入线电极密封处被击穿(更换胶罔)
9.挡板动密封处胶固损坏(更换胶园)
10. 玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂(更换玻璃)

真空电镀的很大程度上取决于设备和环境清洁度(无尘度)。
1、设备简介
大型设备有自动流水线体(含uv流水线)、真空镀膜机、辅助设备有产品治具、工装夹具、有的厂还配有机器人。
2、环境要求
1、喷漆房外室:作业环境至少在10万级以下
真空流水线体
喷漆房内
静电除尘段,作业环境至少在1万级以下。
真空镀膜机
一般为门式装置,打开门可装、卸(半)产品,耳机配件真空电镀哪里有,关上门即可设定参数、真空作业,此过程工艺环境必须在10万级一下操作

真空电镀反应溅射:
1.在溅射镀膜时,有意识地将某种反应性气体如氮气,氧气等引入溅射室并达到一定分压,即可以改变或者控制沉积特性,从而获得不同于靶材的新物质薄膜,2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。
3.直流反应溅射存在靶z毒,阳极消失问题,上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射,使反应溅射可以---的工业应用。
4.反应磁控溅射所用的靶材料(单位素靶或多元素靶)和反应气体(氧、氮、碳氢化合物等)通常很容易获得---的纯度,因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。
5.反应磁控溅射中调节沉积工艺参数,可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜,耳机配件真空电镀加工,从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。
6.反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高,而且成膜过程通常也并不要求对基板进行---温度的加热,因而对基板材料的---较少。
7.反应磁控溅射适合于制备大面积均匀薄膜,并能实现对镀膜的---工业化生产。
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